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IC Semiconductor Crystal Growth Furnace
IC級半導體單晶爐
 
在高度純凈的環(huán)境中,將多晶硅原料熔化,采用直拉法生長高品質、符合集成電路(IC)制造要求的半導體單晶硅設備。
  • 最大兼容熱場

    42''

  • 最大兼容晶棒

    650mm

  • 水平對置磁場

    5000gs

  • 控徑

    ≤±0.1mm

大尺寸,高精度,智能化
AI智能拉晶系統(tǒng) & 最大兼容42寸熱場 & 可定制化磁場方案

+86-0510-81816658

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